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安全溶劑 KemLab HARP™ PMMA 產品使用安全溶劑製造（苯甲醇和乙酸乙酯）
體積和定制 抗蝕劑尺寸可用：100ml、500ml、1L、4L 默認尺寸可用：4L 根據要求提供自定義稀釋

膜厚： 2 – 100um
應用： MEMS、micro arrays、VSCEL、waveguides、antennas、sensors、microfluidics、PDMS molding、pixel walls、fluidic channels、inkjet nozzles、spacers
可取代： SU-8

膜厚：2 –10um
應用：化合物半導體、LED
可取代： AZ® nLOF™ 2020， AZ® nLOF™ 2035， AZ® nLOF™ 2070

膜厚： 最高可達20um
應用： TSV、電鍍、金屬沉積、RIE蝕刻
可取代：AZ 15nXT Series，AZ 15nXT 450cP

膜厚： 0.2 – 2.0um
應用：IC製造
可取代： S1805™、 S1808™、 S1811™、S1813™、S1818™，AZ® 1500 Series

膜厚：2.5 – 12um
應用：先進封裝、TSV、凸塊(Bumping）、電鍍
可取代： S1818™、S1821™、S1827™、SPR™ 220-4.5、SPR™ 220-7.0

膜厚：0.5 – 2.0 μm
應用：IC製造

膜厚：5 – 25+um
應用：先進封裝、電鍍、TSV、凸塊 （Bumping）
可取代： AZ®P4620、AZ®P4000 系列、AZ®9200 系列、AZ®10XT 系列、SPR™ 220-7.0

膜厚：1-2um
應用：各種用途
可取代： AZ® 5214 E

卓越的微/納米光刻膠附著力，適用於高級光刻
SurPass 微光刻附著力促進劑可在各種基材上提供出色的光刻膠附著力。通過對基材表面能進行陽離子改性，無需沉積薄膜或改變基材化學性質，即可提高附著力，並且很容易通過旋塗、浸泡或噴塗應用來實現。SurPass 是水性且無害的。

只需按下一個按鈕，您在不到一秒鐘的同時測量厚度和折射率。 設置同樣簡單， 只需插上設備到您運行Windows™系統計算機的USB埠， 並連接樣品平臺 ， F20已在世界各地有成千上萬的應用被使用. 事實上，我們每天從我們的客戶學習更多的應用.

選擇您的F20主要取決於您需要測量的薄膜的厚度（確定所需的波長範圍）

F40 產品系列用於測量小到 1 微米的光斑。 對大多數顯微鏡而言，F40 能簡單地固定在 c 型轉接器上，這樣的轉接器是顯微鏡行業標準配件。

F40 配備的集成彩色攝像機，能夠對測量點進行準確監控。 在 1 秒鐘之內就能測定厚度和折射率。 像我們所有的台式儀器一樣，F40 需要連接到您裝有 Windows 計算機的 USB 埠上並在數分鐘內完成設定。