Kemlab
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HARP™ PMMA 系列 和共聚物電子束抗蝕劑HARP™ PMMA 系列 和共聚物電子束抗蝕劑
安全溶劑 KemLab HARP™ PMMA 產品使用安全溶劑製造（苯甲醇和乙酸乙酯）
體積和定制 抗蝕劑尺寸可用：100ml、500ml、1L、4L 默認尺寸可用：4L 根據要求提供自定義稀釋 -
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HARE SQ系列 永久性Epoxy負型光阻HARE SQ系列 永久性Epoxy負型光阻
膜厚： 2 – 100um
應用： MEMS、micro arrays、VSCEL、waveguides、antennas、sensors、microfluidics、PDMS molding、pixel walls、fluidic channels、inkjet nozzles、spacers
可取代： SU-8 -
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APOL-LO 3200系列 金屬剝離負型光阻APOL-LO 3200系列 金屬剝離負型光阻
膜厚：2 –10um
應用：化合物半導體、LED
可取代： AZ® nLOF™ 2020， AZ® nLOF™ 2035， AZ® nLOF™ 2070 -
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KL NPR系列 具垂直側壁特性負型光阻KL NPR系列 具垂直側壁特性負型光阻
膜厚： 最高可達20um
應用： TSV、電鍍、金屬沉積、RIE蝕刻
可取代：AZ 15nXT Series，AZ 15nXT 450cP -
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KL 5300系列 薄膜通用正型光阻KL 5300系列 薄膜通用正型光阻
膜厚： 0.2 – 2.0um
應用：IC製造
可取代： S1805™、 S1808™、 S1811™、S1813™、S1818™，AZ® 1500 Series -
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KL 6000系列 厚膜通用正型光阻KL 6000系列 厚膜通用正型光阻
膜厚：2.5 – 12um
應用：先進封裝、TSV、凸塊(Bumping）、電鍍
可取代： S1818™、S1821™、S1827™、SPR™ 220-4.5、SPR™ 220-7.0 -
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K-PRO™系列 進階厚膜正型光阻K-PRO™系列 進階厚膜正型光阻
膜厚：5 – 25+um
應用：先進封裝、電鍍、TSV、凸塊 （Bumping）
可取代： AZ®P4620、AZ®P4000 系列、AZ®9200 系列、AZ®10XT 系列、SPR™ 220-7.0
