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HARP™ PMMA 系列 和共聚物電子束抗蝕劑

HARP™ PMMA 系列 和共聚物電子束抗蝕劑

安全溶劑 KemLab HARP™ PMMA 產品使用安全溶劑製造（苯甲醇和乙酸乙酯）
體積和定制 抗蝕劑尺寸可用：100ml、500ml、1L、4L 默認尺寸可用：4L 根據要求提供自定義稀釋
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詳細介紹
HARP™ PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）電子束抗蝕劑專為高解析度直接書寫電子束光刻設計。當與 HARP-C™ 共聚物結合時，HARP 多層系統非常適合 T 型柵極製造。HARP™ PMMA 對各種基材具有優異的附著力，並可作為晶圓減薄和犧牲層的保護塗層。

應用：電子束直接書寫光刻、多層 T 型柵極製造、X 射線 LIGA、用於晶圓減薄的保護塗層。
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