Kemlab

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KL NPR系列 具垂直側壁特性負型光阻

KL NPR系列 具垂直側壁特性負型光阻

膜厚： 最高可達20um
應用： TSV、電鍍、金屬沉積、RIE蝕刻
可取代：AZ 15nXT Series，AZ 15nXT 450cP
KL NPR系列 負型光阻.png
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詳細介紹
KL NPR 是一種酚醛樹脂（novolac）負型光阻，專為電鍍、金屬沉積、TSV及RIE蝕刻設計。其單層塗佈膜厚可達20微米，並具有垂直側壁與高縱橫比的特性。KL NPR具有優異的熱穩定性，可承受高達130⁰C的溫度，而不影響輪廓品質。
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