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產品介紹

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HARP™ PMMA 系列產品-圖二參考.png
HARP™ PMMA 系列 和共聚物電子束抗蝕劑
安全溶劑 KemLab HARP™ PMMA 產品使用安全溶劑製造(苯甲醇和乙酸乙酯)
體積和定制 抗蝕劑尺寸可用:100ml、500ml、1L、4L 默認尺寸可用:4L 根據要求提供自定義稀釋
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HARE SQ系列 永久性Epoxy負型光阻產品-圖一.png
HARE SQ系列 永久性Epoxy負型光阻
膜厚: 2 – 100um
應用: MEMS、micro arrays、VSCEL、waveguides、antennas、sensors、microfluidics、PDMS molding、pixel walls、fluidic channels、inkjet nozzles、spacers
可取代: SU-8
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APOL-LO 3200系列-金屬剝離負型光阻-圖一_APOL-LO 3207.png
APOL-LO 3200系列 金屬剝離負型光阻
膜厚:2 –10um
應用:化合物半導體、LED
可取代: AZ® nLOF™ 2020, AZ® nLOF™ 2035, AZ® nLOF™ 2070
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KL NPR系列 負型光阻.png
KL NPR系列 具垂直側壁特性負型光阻
膜厚: 最高可達20um
應用: TSV、電鍍、金屬沉積、RIE蝕刻
可取代:AZ 15nXT Series,AZ 15nXT 450cP
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5300.png
KL 5300系列 薄膜通用正型光阻
膜厚: 0.2 – 2.0um
應用:IC製造
可取代: S1805™、 S1808™、 S1811™、S1813™、S1818™,AZ® 1500 Series
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KL-6000系列產品-通用厚膜正型光阻.png
KL 6000系列 厚膜通用正型光阻
膜厚:2.5 – 12um
應用:先進封裝、TSV、凸塊(Bumping)、電鍍
可取代: S1818™、S1821™、S1827™、SPR™ 220-4.5、SPR™ 220-7.0
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KL7000.jpg
KL 7000 系列 不含PFAS的正型光阻
膜厚:0.5 – 2.0 μm
應用:IC製造
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k-pro_goodpic_10um posts, Cu, 70d, 1KX, 2.jpg
K-PRO™系列 進階厚膜正型光阻
膜厚:5 – 25+um
應用:先進封裝、電鍍、TSV、凸塊 (Bumping)
可取代: AZ®P4620、AZ®P4000 系列、AZ®9200 系列、AZ®10XT 系列、SPR™ 220-7.0
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公司簡介

勁豪電子股份有限公司成立於西元2020年3月為化學品貿易代理商。
•於2020年4月與KemLabInc&DisChemInc 簽定代理權。 •辦公室位於楊梅幼獅工業區。
•代理KemLab全品項產品,包含各式光阻材料、顯影劑、洗邊劑等化學溶液。
•致力於提供客戶完整的製程解決方案,以及更有競爭力的產品。